备完毕”
“开始实验”
...
“2001年11月17日，晴
王院士的加入让团队信心大增，30多名科研人员连续攻坚一个月，终于在光束稳定技术上取得了成果
此次的光束稳定系统包括光束测量和光束转向两大核心功能模块，在推导了两个模块之间的光束传递矩阵后，王院长非常大胆的决定搭建光电闭环控制系统，通过引入已知光束偏移量后，数据显示，系统的指向稳态误差低于±3μrad，位置稳态误差低于±，系统调整时间小于
实验结果令人振奋”
“2001年11月28日，晴
由长光所和江大共同组建的扩束系统小组带来了好消息，全新设计的系统可以满足光束在5-20m传输光路范围内不需要进行透镜间隔调节，实现光斑大小和发散角满足设计要求，保证目标光束口径在(28.5±0.5)mm范围内，X方向发散角为，Y方向发散角为
该项研究将对光刻机研发产生巨大影响”
此时的长春实验室
“王院士，光源能量稳定，光斑数据正常”
“打开遮光器”
“是”
...
“2001年12月1日，晴
今天从江大的李教授提出了一个前沿的研究，针对准分子光源特性，提出了基于光棒和复眼的实现对掩膜面高均匀照明的两种方法
针对入射准分子激光强度的波动性和强度分布的随机性，提出采用阵列型照明模式变换元件对光束进行变换，以实现各种照明模式下光瞳的对称性和一致性
研究了相干因子调整系统中可能存在的各种误差源对相干因子、光瞳椭圆度、光瞳极平衡性、远心度的影响”
“2001年12月5日，晴
清华，燕航以及长光所成功合作研制了全新衍射光学元件，极大的降低了杂散光的影响，全新的算法将为我们自主研发的光刻机提供强有力的技术支持”
此时的长春实验室
“王院士，可以进行数据采集了”
“开始吧”
“是”
...
“2001年1月8日，晴
这是意义深远的一天，物镜高数值孔径和极小的系统波像差矛盾一直都是光刻机物镜领域的最大难点
现在通过非球面元件和反射元件的配合，我们有望突破这一技术难点，虽然这一次的元件基本是在霓虹国定制的，但解决了上游难题，下游元件的自研只是时间问题”
...
通过徐国华的笔记本，孟谦基本了解了光刻机项目这半年的研发情况和主要成就，虽然只有半年的时间，还无法实现更全面的自研自产，但一个又一个核心技术的突破，是华夏科研力量最好的展现，
光刻机设计的核心技术实在太多了，光是一个曝光系统涉及的专利就能有上千个，曾经那一世，这些核心技术基本上跟华夏