第76章 杰出的后起之秀(求追读)
阿斯克:“不好意思李,刚刚手机不小心掉到水里了blji Θcc”
“你要集成电路相关工艺技术的资料吗,你等等,我马上发给你blji Θcc”
没多久,李暮收到资料blji Θcc
他先是飞速浏览了一边资料,然后用问题拖延时间:“各位专家教授,大家觉得,我们国内现在集成电路研究困难有哪些?”
“当然是技术问题,很多技术我们都没有嘛blji Θcc”有专家笑道blji Θcc
一个教授立刻接话:“不仅是没有,用什么技术也不清楚,只能慢慢摸索blji Θcc”
两人的话让周围的人频频点头blji Θcc
李暮这会儿看了一些资料,心底稍稍有点底,飞快组织语言道:“集成电路,就是把电路所需要的晶体管、二极管、电阻器和电容器等原件以一定工艺方式制作在一小块硅片上,
再用适当的工艺进行互连,然后封装在管壳内……最终制成集成电路blji Θcc”
“那么我们从中是不是能够从中得到集成电路所需的工艺信息呢?”
“当然可以,而且不需要推论blji Θcc”下面立刻有人回答,“按照国外的期刊和杂志提供的资料,它会经过氧化、光刻、扩散、外延、等工艺流程blji Θcc”
李暮点点头,目光瞥到旁边有块小黑板,于是缓步走过去,拖延时间以便能浏览到更多的内容blji Θcc
等到在小黑板前面站定,他先把上面写的东西擦了,然后拿起粉笔,写下一段文字:光刻工艺、薄膜沉积工艺、刻蚀工艺、离子注入工艺blji Θcc
“嗯?”台下有人皱起了眉blji Θcc
光刻和刻蚀他们倒是知道,但薄膜沉积和离子注入,就比较陌生了blji Θcc
李暮闻言转过身,道:“这是我根据国外资料,做出的对集成电路工艺难题的推论blji Θcc”
“哦,推论的依据是什么?你不妨举个例子blji Θcc”有专家立刻犀利发问blji Θcc
毫无根据的结果,无法让他们信服blji Θcc
李暮微微沉吟,然后道:“这四项工艺是我对集成电路成果的逆推,比如薄膜沉积工艺,就是通过晶圆的表面具有各层电路结构倒推而出blji Θcc”
听完李暮的回答,下面的专家教授们一琢磨,发现好像还真有几分道理,于是又问道:“那么刻蚀呢?又因为什么?”
“在集成电路的形成过程中,需要光刻胶来复制掩膜图形,而刻蚀就是如何正确地选择清除不需要材料的工艺blji Θcc”李暮笑道blji Θcc
说完,他似是知道这些专家和
点击读下一页,继续阅读 笔落烽火 作品《火红年代,开局大学演讲》第76章 杰出的后起之秀(求追读)